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-制備高性能、高可靠性功能薄膜的關鍵設備
-廣泛用于高熔點、高沸點材料處理，如蒸發鎢、鉬、鉭、氧化鋁等材料
-附著力強、結構致密的高質量薄膜
-實踐證明的可靠、低成本、高產能的薄膜沉積系統和工藝

- 廣泛適用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。
- 成熟、可靠、低成本、高產能、7/24連續運行的薄膜刻蝕系統
- 歐美工業生產驗證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復性
- 純物理刻蝕，采用惰性氣體為工藝氣體，環保、無污染，應用廣泛

-高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
-高速率反應濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
-優異的薄膜厚度均勻性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
-基片背面氦氣冷卻，基片溫度（<50°C）
-高靶材使用率（>80%）